[发明专利]半导体设备及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201210110904.0 申请日: 2001-12-11
公开(公告)号: CN102646685A 公开(公告)日: 2012-08-22
发明(设计)人: 山崎舜平;小山润;桑原秀明;藤川最史 申请(专利权)人: 株式会社半导体能源研究所
主分类号: H01L27/12 分类号: H01L27/12;H01L21/77;G02F1/1362
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 朱海煜
地址: 日本神奈*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供了一种半导体设备及其制造方法。按照本发明的一个方面,半导体设备包括:在一个衬底上的象素部分,包括至少一个第一n沟道型薄膜晶体管和至少一个电镀的源布线,该n沟道型薄膜晶体管包括在一个绝缘表面上的一个半导体层,在该半导体层上的一个绝缘薄膜和在该绝缘薄膜上的一个栅极;一个在该衬底上的驱动电路,包括至少第二和第三n沟道薄膜晶体管;一个在该衬底上的电镀的端子部分。
搜索关键词: 半导体设备 及其 制造 方法
【主权项】:
一种半导体设备,包括:在衬底上的像素部分,包括至少一个p沟道薄膜晶体管和至少一个电镀的源布线:在所述衬底上的驱动电路,包括至少第二和第三p沟道薄膜晶体管;以及在所述衬底上的电镀的端子部分。
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