[发明专利]半导体芯片以及其形成方法有效
申请号: | 201210118573.5 | 申请日: | 2012-04-20 |
公开(公告)号: | CN103378057A | 公开(公告)日: | 2013-10-30 |
发明(设计)人: | 陈逸男;徐文吉;叶绍文;刘献文 | 申请(专利权)人: | 南亚科技股份有限公司 |
主分类号: | H01L23/528 | 分类号: | H01L23/528;H01L21/768 |
代理公司: | 深圳新创友知识产权代理有限公司 44223 | 代理人: | 江耀纯 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 本发明公开了一种半导体芯片,包括基底、第一穿硅通孔、第一穿硅通孔结构、第二穿硅通孔、第二穿硅通孔结构以及被动器件。第一穿硅通孔设置于基底中、并贯穿上表面,第二穿硅通孔亦设置于基底中、贯穿下表面并与第一穿硅通孔相连通。第一穿硅通孔结构设置于第一穿硅通孔中,包括第一通孔导电材料,第二穿硅通孔结构亦设置于第二穿硅通孔中,包括与第一通孔导电材料电气连接的第二通孔导电材料。被动器件覆盖下表面,并与第二通孔导电材料电气连接。 | ||
搜索关键词: | 半导体 芯片 及其 形成 方法 | ||
【主权项】:
一种半导体芯片,其特征在于,包括:基底,具有上表面以及相对于所述上表面的下表面;第一穿硅通孔设置于所述基底中,贯穿所述上表面;第一穿硅通孔结构设置于所述第一穿硅通孔中,包括第一通孔导电材料;第二穿硅通孔设置于所述基底中,贯穿所述下表面并与所述第一穿硅通孔相连通;第二穿硅通孔结构设置于所述第二穿硅通孔中,包括与所述第一通孔导电材料电气连接的第二通孔导电材料;以及被动器件覆盖所述下表面,并与所述第二通孔导电材料电气连接。
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