[发明专利]形成部分沉积层的方法及形成部分沉积层的装置无效
| 申请号： | 201210122179.9 | 申请日： | 2012-04-24 |
| 公开（公告）号： | CN102766843A | 公开（公告）日： | 2012-11-07 |
| 发明（设计）人： | 李浚源;黄韦翔;郑舒尹 | 申请（专利权）人： | 锣洋科技股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/24 |
| 代理公司： | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人： | 臧建明 |
| 地址： | 中国台湾桃*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明提供一种形成部分沉积层的方法及形成部分沉积层的装置。此方法包括：在蒸发板上提供基材，在蒸发板与基材之间置放屏蔽板，使得屏蔽板屏蔽基材的第一部分，并暴露基材的第二部分。当基材朝预定方向移动时，进行蒸发制程，使得在蒸发板上的蒸发源沉积在基材暴露的第二部分上，而不沉积在基材屏蔽的第一部分上。 | ||
| 搜索关键词： | 形成 部分 沉积 方法 装置 | ||
【主权项】：
一种形成部分沉积层的方法，包括：在一蒸发板上提供一基材；在该蒸发板与该基材之间置放一屏蔽板，使得该屏蔽板屏蔽该基材的一第一部分，并暴露该基材的一第二部分；以及当该基材朝一预定方向移动时，进行一蒸发制程，使得在该蒸发板上的一蒸发源沉积在该基材中经暴露的该第二部分上，而不沉积在该基材中经屏蔽的该第一部分上。
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