[发明专利]半导体芯片、半导体封装结构以及其形成方法无效

专利信息
申请号: 201210128639.9 申请日: 2012-04-27
公开(公告)号: CN103377995A 公开(公告)日: 2013-10-30
发明(设计)人: 陈逸男;徐文吉;叶绍文;刘献文 申请(专利权)人: 南亚科技股份有限公司
主分类号: H01L21/768 分类号: H01L21/768;H01L21/48;H01L23/538;H01L23/498
代理公司: 深圳新创友知识产权代理有限公司 44223 代理人: 江耀纯
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 发明公开了一种半导体芯片,包括基底、贯穿孔、绝缘层、凸点下金属层、穿硅通孔以及凸点。基底具有第一表面以及第二表面。贯穿孔贯穿基底的第一表面以及第二表面。绝缘层设置在基底的第二表面上,绝缘层具有第二开孔对应贯穿孔。凸点下金属层共形且连续地设置在贯穿孔以及第二开孔的表面。穿硅通孔设置在贯穿孔中,而凸点则设置在第二开孔中。本发明另外还提供了形成上述半导体芯片的方法、一种半导体封装结构与其制作方法。
搜索关键词: 半导体 芯片 封装 结构 及其 形成 方法
【主权项】:
一种形成半导体芯片的方法,其特征在于,包括:提供基底,所述基底具有第一表面以及第二表面;在所述基底中形成贯穿孔,所述贯穿孔贯穿所述第一表面以及所述第二表面,且所述贯穿孔填满有牺牲层;移除所述牺牲层;在所述基底的所述第二表面形成绝缘层,所述绝缘层具有第二开孔暴露所述贯穿孔;以及在所述贯穿孔以及所述第二开孔中填满导电层,以同时在所述贯穿孔中形成穿硅通孔,以及在所述第二开孔中形成凸点。
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