[发明专利]一种高精度金属掩模板的混合制作工艺有效

专利信息
申请号: 201210139817.8 申请日: 2012-05-08
公开(公告)号: CN103388121B 公开(公告)日: 2017-07-11
发明(设计)人: 魏志凌;高小平 申请(专利权)人: 昆山允升吉光电科技有限公司
主分类号: C23C14/04 分类号: C23C14/04;C25D1/10;C23F1/02
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 215300 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种高精度金属掩模板的制备工艺,工艺步骤包括通过电鋳镍合金,制作一定厚度的基板,基板上带有开口(通孔);通过蚀刻工艺在掩模基板的一面蚀刻一定深度凹槽,使蚀刻一面的开口尺寸大于未蚀刻面开口尺寸,且孔壁呈圆角,形成锥度。应用电铸加蚀刻的混合工艺制备得到的金属掩模板,据有成本低,开孔质量优,开孔精度高等优点,并减少了有效模板的厚度,提高了掩模板蒸镀过程中的蒸镀成膜率。
搜索关键词: 一种 高精度 金属 模板 混合 制作 工艺
【主权项】:
一种高精度金属掩模板的混合制作工艺,该种工艺包括电铸工艺和蚀刻工艺;其特征在于,先进行电铸工艺,再进行蚀刻工艺;所述的电铸工艺,其步骤为:芯模前处理→单面贴膜→单面曝光→单面显影→电铸→褪膜→基板后处理;所述的蚀刻工艺,其步骤为:双面贴膜→双面曝光→单面显影→单面蚀刻→水洗→褪膜→后处理→剥离→检测→组装→成品检测→包装。
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