[发明专利]一种黑膜结构及其制造方法

摘要

本发明揭示一种黑膜结构及其制造方法，此黑膜结构具有不透光的第一光吸收层，透光的连接层位于第一光吸收层上，第二光吸收层位于连接层上，以此形成降低反射率的光学结构。其中，本发明更包含透光的调整层，调整层位于第二光吸收层上，此调整层能调整各波长光线的反射率，以缩减可见光区段中各波长的反射率的差异，避免黑膜结构色泽产生偏红或偏蓝的现象，增加黑膜的均匀度和色泽。

主权项

一种黑膜结构的制造方法，其特征在于：包含下列步骤：步骤一：提供第一光吸收层；步骤二：在所述第一光吸收层上形成连接层；步骤三：在所述连接层上形成具有第一厚度的第二光吸收层，所述第一厚度与反射光的可见光平均反射率呈正比对应关系；以及，步骤四：在所述第二光吸收层上形成具有第二厚度的调整层，以减少所述反射光中可见光各波长反射率的差异性；步骤五：在所述调整层上形成基材；或者在所述步骤一之前先形成基材，再在所述基材上形成所述第一光吸收层。