[发明专利]一种高透过率低反射率的减反射膜镀膜方法有效

专利信息
申请号: 201210147042.9 申请日: 2012-05-14
公开(公告)号: CN102732830A 公开(公告)日: 2012-10-17
发明(设计)人: 江河 申请(专利权)人: 南昌欧菲光科技有限公司
主分类号: C23C14/08 分类号: C23C14/08;C23C14/22;G02B1/11
代理公司: 南昌新天下专利商标代理有限公司 36115 代理人: 施秀瑾
地址: 330000 江西*** 国省代码: 江西;36
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明涉及一种高透过率低反射率的减反射膜镀膜方法,是数码相机视窗玻璃、滤光片的关键技术,该技术还可应用于防辐射玻璃、隔温玻璃、车窗玻璃、太阳能利用等多种领域。在真空镀膜设备中由以下步骤完成:(1)抽真空(2)加热(3)离子清洗(Ar+O2)(4)镀SiO2(5)全氧气氛刻蚀(只充O2)(6)镀TiO2(7)全氧气氛刻蚀(只充O2),重复步骤(4)-(7)直到膜系结束。在不增加真空镀膜设备要求的条件下,提高AR膜在400-700纳米光波长区域的透过率,进一步降低反射率。
搜索关键词: 一种 透过 反射率 减反射膜 镀膜 方法
【主权项】:
一种高透过率低反射率的减反射膜镀膜方法,其特征在于在真空镀膜设备中由以下步骤完成:(1)、常规抽真空步骤;(2)、常规加热步骤;(3)、Ar+O2的离子清洗步骤;(4)、在膜上镀SiO2;(5)、在全氧气氛刻蚀,炉内气压可与镀膜阶段相同,时间一般2‑5分钟;同时使用脉冲电源为离子源电源的离子活化处理,使得在脉冲电场的作用下,镜片表面的原有低价离子振荡加剧,活跃程度增大,更容易进一步失去电子,与氧形成牢固、稳定的化学键结构;(6)、在膜上镀TiO2; (7)、在全氧气氛刻蚀,炉内气压可与镀膜阶段相同,时间一般2‑5分钟;同时使用脉冲电源为离子源电源的离子活化处理,使得在脉冲电场的作用下,镜片表面的原有低价离子振荡加剧,活跃程度增大,更容易进一步失去电子,与氧形成牢固、稳定的化学键结构;重复步骤(4)‑(7)直到膜系结束。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于南昌欧菲光科技有限公司,未经南昌欧菲光科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201210147042.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top