[发明专利]化合物、树脂、光致抗蚀剂组合物和用于制备光致抗蚀剂图案的方法无效
| 申请号： | 201210152086.0 | 申请日： | 2012-05-16 |
| 公开（公告）号： | CN102786419A | 公开（公告）日： | 2012-11-21 |
| 发明（设计）人： | 市川幸司;吉田勋 | 申请（专利权）人： | 住友化学株式会社 |
| 主分类号： | C07C69/757 | 分类号： | C07C69/757;C07C69/54;C07C69/76;C08F222/14;C08F220/18;C08F220/28;C08F222/20;C08F122/18;G03F7/004;G03F7/00 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 李新红 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： |
本发明提供化合物、树脂、光致抗蚀剂组合物和用于制备光致抗蚀剂图案的方法。所述化合物是由式(I)表示的化合物，其中，T1表示单键或C6-C14芳族烃基；L1表示C1-C17二价饱和烃基，其中亚甲基可以被氧原子或羰基代替；L2和L3各自独立地表示单键或C1-C6二价饱和烃基，其中亚甲基可以被氧原子或羰基代替；环W1和环W2各自独立地表示C3-C36烃环；R1和R2各自独立地表示氢原子、羟基或C1-C6烷基；R3和R4各自独立地表示羟基或C1-C6烷基；R5表示羟基或甲基；m表示0或1；并且t和u各自独立地表示0至2的整数。 |
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| 搜索关键词： | 化合物 树脂 光致抗蚀剂 组合 用于 制备 图案 方法 | ||
【主权项】：
1.一种由式(I)表示的化合物：![]()
其中T1表示单键或C6-C14芳族烃基，L1表示C1-C17二价饱和烃基，其中亚甲基可以被氧原子或羰基代替，L2和L3各自独立地表示单键或C1-C6二价饱和烃基，其中亚甲基可以被氧原子或羰基代替，环W1和环W2各自独立地表示C3-C36烃环，R1和R2各自独立地表示氢原子、羟基或C1-C6烷基，R3和R4各自独立地表示羟基或C1-C6烷基，R5表示羟基或甲基，m表示0或1，并且t和u各自独立地表示0至2的整数。
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