[发明专利]用于齿科修复的羟基磷灰石晶须基功能杂化材料的制备有效

专利信息
申请号: 201210181564.0 申请日: 2012-06-05
公开(公告)号: CN102697662A 公开(公告)日: 2012-10-03
发明(设计)人: 朱美芳;刘丰维;潘莹颖;夏梦阁;陈少华;姜丽丽 申请(专利权)人: 东华大学
主分类号: A61K6/083 分类号: A61K6/083;A61K6/033;C30B29/14;C30B29/62
代理公司: 上海泰能知识产权代理事务所 31233 代理人: 黄志达;谢文凯
地址: 201620 上海市*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明涉及一种用于齿科修复的羟基磷灰石晶须基功能杂化材料的制备方法,包括:(1)在环己烷中加入羟基磷灰石晶须,机械搅拌超声分散,再添加有机胺和偶联剂,反应得到表面含反应基团的改性羟基磷灰石晶须;(2)将上述改性羟基磷灰石晶须加入有机溶剂中,搅拌超声分散,得到改性晶须悬浮液;再加入引发剂,搅拌后,缓慢滴加单体稀释溶液,滴加结束后,反应得到羟基磷灰石晶须基功能杂化材料,即可应用于齿科修复复合树脂。本发明的制备方法简单、易操作,杂化反应效率高;本发明的羟基磷灰石晶须基功能杂化材料可制备齿科修复复合树脂,得到的齿科修复复合树脂可释放钙、磷离子,具有可再矿化、自修复能力,可有效避免二次龋齿的发生。
搜索关键词: 用于 齿科 修复 羟基 磷灰石 晶须基 功能 材料 制备
【主权项】:
一种用于齿科修复的羟基磷灰石晶须基功能杂化材料的制备方法,包括:(1)在环己烷中加入羟基磷灰石晶须,搅拌10‑40分钟、超声分散10‑40分钟,再添加有机胺和偶联剂,于室温反应10‑40分钟,再于50‑70℃下反应60‑120分钟,得到表面含反应基团的改性羟基磷灰石晶须;其中羟基磷灰石晶须、偶联剂、有机胺的重量比为2‑5:0.5‑1:0.1‑0.4;(2)将上述改性羟基磷灰石晶须加入有机溶剂中,搅拌10‑40分钟,超声分散40‑80分钟,得到改性晶须悬浮液;再加入引发剂,于40℃‑100℃搅拌1‑10分钟后,缓慢滴加体积浓度为40‑60%的单体稀释溶液,滴加结束后,反应3‑24小时,得到羟基磷灰石晶须基功能杂化材料;其中,改性羟基磷灰石晶须、单体、引发剂的重量比为0.5‑1:1‑2:0.01‑0.02。
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