[发明专利]一种使用普通设备和物料制作HDI积层板的工艺有效
申请号: | 201210181598.X | 申请日: | 2012-06-05 |
公开(公告)号: | CN103037640A | 公开(公告)日: | 2013-04-10 |
发明(设计)人: | 黄明安 | 申请(专利权)人: | 北京凯迪思电路板有限公司;武汉凯迪思特科技有限公司 |
主分类号: | H05K3/46 | 分类号: | H05K3/46;H05K3/42 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 102600 *** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 一种使用普通设备和物料制作HDI积层板的工艺流程,包括步骤:A、对积层用的双面覆铜板的铜箔进行减薄处理;B、对减薄铜后的板进行机械钻孔、沉铜、电镀处理;C、采用图形转移方法,对电镀后的覆铜板的钻孔只做出单面孔环;D、制作积层板所用的芯板;E、对芯板使用半固化片低温层压涂覆树脂;F、剥离掉玻璃纤维;G、把以上2种材料对准真空热压压合;H、用浓硫酸去除盲孔内的树脂;I、进行正常的钻通孔、沉铜、电镀、图形转移、阻焊、表面处理。本发明采用机械钻孔、普通沉铜电镀的设备和普通半固化片、浓硫酸这些普通物料,为一般线路板厂制作HDI积层板提供了一个经济实用的方法。 | ||
搜索关键词: | 一种 使用 普通 设备 物料 制作 hdi 积层板 工艺 | ||
【主权项】:
一种使用普通设备和物料制作HDI积层板的工艺,其特征包括以下步骤:A、对积层用的双面覆铜板的铜箔进行减薄处理;B、对减薄铜后的板进行机械钻出所需的盲孔、沉铜、电镀处理;C、采用图形转移方法,对电镀后的覆铜板的钻孔只做出单面孔环;D、制作积层板所用的芯板;E、对芯板表面进行粗化处理后使用半固化片110~120℃低温层压;F、剥离玻璃纤维后芯板表面就被涂覆上一层半固化树脂;G、把以上2种材料对准真空热压压合;H、用浓硫酸去除盲孔内的树脂;I、进行正常的钻通孔、沉铜、电镀、外层图形转移、阻焊、表面处理。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京凯迪思电路板有限公司;武汉凯迪思特科技有限公司,未经北京凯迪思电路板有限公司;武汉凯迪思特科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201210181598.X/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种铜基电触头材料的热轧制加工方法
- 下一篇:一种整体式液压分离轴承