[发明专利]制造磁极和护罩的方法有效
申请号: | 201210182781.1 | 申请日: | 2012-06-05 |
公开(公告)号: | CN102820038B | 公开(公告)日: | 2017-04-12 |
发明(设计)人: | M·蒋;R·周;G·罗;M·大杉;D·杨 | 申请(专利权)人: | 西部数据(弗里蒙特)公司 |
主分类号: | G11B5/10 | 分类号: | G11B5/10;G11B5/127 |
代理公司: | 北京纪凯知识产权代理有限公司11245 | 代理人: | 赵蓉民 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明涉及一种制造用于数据存储系统的磁记录换能器的过程,该过程包括提供衬底、下层以及在下层上沉积至第一厚度并与所述下层接触的第一非磁性中间层,在第一中间层的第一部分上执行第一扫描抛光以平面化第一中间层的第一部分至第二厚度,在平面化的第一中间层的第一部分中提供主磁极,提供位于第一中间层的第一部分上并与其接触的光阻材料的第一图案,该图案包括限定侧面护罩沟槽的孔隙,执行湿蚀刻以去除第一中间层的至少部分从而暴露多个主磁极侧面中的至少一个,以及在侧面护罩沟槽中沉积侧面护罩材料。 | ||
搜索关键词: | 制造 磁极 护罩 过程 | ||
【主权项】:
一种制造用于数据存储系统的磁记录换能器的方法,所述磁记录换能器具有主磁极,其中所述主磁极包括磁极顶部、多个侧面以及毗邻所述多个侧面中的至少一个的护罩,该方法包括:提供衬底、下层和第一非磁性中间层,所述第一非磁性中间层在所述下层上沉积至第一厚度并与所述下层接触;在所述第一非磁性中间层的第一部分上执行第一扫描抛光以平面化所述第一非磁性中间层的所述第一部分至第二厚度;在所述第一非磁性中间层的所述第一部分中提供多个沟槽;在平面化的所述第一非磁性中间层的所述第一部分中的所述多个沟槽中提供多个主磁极;提供位于所述第一非磁性中间层的所述第一部分上并与其接触的光阻材料的第一图案,所述图案包括限定侧面护罩沟槽的孔隙;执行湿蚀刻以去除所述第一非磁性中间层的至少一部分,从而暴露所述多个主磁极侧面中的至少一个,以及在所述侧面护罩沟槽中沉积侧面护罩材料。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于西部数据(弗里蒙特)公司,未经西部数据(弗里蒙特)公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201210182781.1/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:用于制备含硫氨基酸的方法
- 下一篇:彩钢板撕膜工具