[发明专利]光刻机及应用于光刻机中的工件台系统有效
| 申请号： | 201210189355.0 | 申请日： | 2012-06-08 |
| 公开（公告）号： | CN103472678A | 公开（公告）日： | 2013-12-25 |
| 发明（设计）人： | 陈文枢;王天明 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 屈蘅;李时云 |
| 地址： | 201203 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种光刻机，包括：掩模台、投影物镜、照明系统、测量框架、基础框架以及工件台系统，照明系统将掩模版上的图像经过投影物镜投射在硅片或基版上，掩模台安装于测量框架上，掩模台的反作用力通过掩模台反力支架外引至基础框架上，测量框架通过测量框架减振器安装于基础框架上，工件台系统包括用于工件台、工件台减振器、工件台反力外引结构以及工件台安装底座，工件台通过工件台减振器安装于工件台安装底座上，工件台安装底座可拆卸的安装于基础框架上，工件台采用工件台反力外引结构将工件台的反作用力外引至基础框架。本发明可有效隔离基础框架和工件台之间的相互影响，能简化结构并可以便于实现工件台的安装和维护。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 应用于 中的 工件 系统 | ||
【主权项】：
一种光刻机，包括：用于承载掩模版的掩模台、投影物镜、照明系统、测量框架、基础框架以及工件台系统，所述照明系统将掩模版上的图像经过投影物镜投射在硅片或基版上，所述掩模台安装于所述测量框架上，所述掩模台的反作用力通过掩模台反力支架外引至基础框架上，所述测量框架通过测量框架减振器安装于基础框架上，其特征在于，所述工件台系统包括用于承载硅片或者基版的工件台、工件台减振器、工件台反力外引结构以及工件台安装底座，所述工件台通过工件台减振器安装于工件台安装底座上，所述工件台安装底座可拆卸的安装于所述基础框架上，所述工件台采用工件台反力外引结构将工件台的反作用力外引至所述基础框架。
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