[发明专利]湿式蚀刻设备及其供应装置无效
| 申请号： | 201210194565.9 | 申请日： | 2012-06-13 |
| 公开（公告）号： | CN103484860A | 公开（公告）日： | 2014-01-01 |
| 发明（设计）人： | 曾子章;陈宗源 | 申请（专利权）人： | 欣兴电子股份有限公司 |
| 主分类号： | C23F1/08 | 分类号： | C23F1/08 |
| 代理公司： | 北京戈程知识产权代理有限公司 11314 | 代理人： | 程伟;王锦阳 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 一种湿式蚀刻设备及其供应装置，该供应装置包括一供应件及一调整件，该供应件具有贯穿的供应道以输送流体，该调整件具有相邻的信道与回收道，且该供应件穿设于该信道中，以供流经该供应件的流体由该信道输出，并令该回收道吸取部分由该信道输出的蚀刻液，借以控制该流体的输出量。 | ||
| 搜索关键词： | 蚀刻 设备 及其 供应 装置 | ||
【主权项】：
一种湿式蚀刻设备，包括：机台，其具有用以储存流体的容置空间；至少一供应件，其设于该机台上，且该供应件具有贯穿的供应道，该供应道连通该机台的容置空间，以令该容置空间中的流体经该供应道移至该机台外；以及调整件，其具有相邻的信道与回收道，该信道用以容置该供应件，以使流经该供应件的流体由该信道输出，且该回收道连通该机台的容置空间。
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