[发明专利]一种用于液相外延用富镓的砷化镓熔体凝固的方法无效
申请号: | 201210211640.8 | 申请日: | 2012-06-25 |
公开(公告)号: | CN102732951A | 公开(公告)日: | 2012-10-17 |
发明(设计)人: | 邱锋;吕英飞;胡淑红;郭建华;邓惠勇;戴宁 | 申请(专利权)人: | 中国科学院上海技术物理研究所 |
主分类号: | C30B19/00 | 分类号: | C30B19/00;C30B29/42 |
代理公司: | 上海新天专利代理有限公司 31213 | 代理人: | 郭英 |
地址: | 200083 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明公开了一种用于液相外延用富镓的砷化镓熔体凝固的方法。该发明的特征是在外延层生长结束后,富镓砷化镓熔源,因快速冷却,导致其在室温下还处于熔体状态,为了溶源再次进行外延生长,熔体需要凝固,以便于液相外延生长中的取样或装样,此时只需添加微量镓溶剂,并沿顺时针或逆时针旋转搅动,伴随晶体生长提拉法的动作,使富镓砷化镓熔体凝固。本发明的优点是:采用以微量镓晶粒带动熔体运动而凝固的技术,操作过程无污染引入,且操作时间短,减少熔源、石墨舟和石英管腔体在空气中的暴露时间,大大缩短实验装载时间,减少材料装载过程中的非故意吸附,提高材料生长的纯度,为液相外延技术实现不凝固的富镓熔体材料生长提供了可能。 | ||
搜索关键词: | 一种 用于 外延 用富镓 砷化镓熔体 凝固 方法 | ||
【主权项】:
一种用于液相外延用富镓的砷化镓熔体凝固的方法,其特征在于:将微量Ga薄片一端插进液态的富镓GaAs熔体中,以每秒0.5~1转的速度顺时针或逆时针搅动,随着熔体液态慢慢凝固,转动的区域半径慢慢变小,在搅动的同时采用单晶生长的提拉技术沿运动轴向向外拉出和插入,直至熔源全部凝固。
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