[发明专利]一种封装薄膜及制造该封装薄膜的方法有效

专利信息
申请号: 201210223170.7 申请日: 2012-06-29
公开(公告)号: CN102751446A 公开(公告)日: 2012-10-24
发明(设计)人: 平山秀雄;邱勇;黄秀颀 申请(专利权)人: 昆山工研院新型平板显示技术中心有限公司
主分类号: H01L51/52 分类号: H01L51/52
代理公司: 北京三聚阳光知识产权代理有限公司 11250 代理人: 彭秀丽
地址: 215300 江苏省苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明提供一种封装薄膜,包括至少两个氧化物层和位于相邻所述氧化物层之间的至少一有机物层,在最内层的所述氧化物层和所述有机物层之间设置一缓冲层,所述缓冲层的厚度在50nm-1μm之间。由于在最内层的所述氧化物层和所述有机物层之间设置一缓冲层,并且所述缓冲层的厚度在50nm-1μm之间,因此,当采用溅射方式沉积最内层的氧化物层时,所述缓冲层会对所述溅射离子进行缓冲,不会使得所述溅射离子损伤光电子器件的阴极,提高了光电子器件的使用性能和水氧阻隔能力。
搜索关键词: 一种 封装 薄膜 制造 方法
【主权项】:
一种封装薄膜,包括至少两个氧化物层(1)和位于相邻所述氧化物层(1)之间的至少一有机物层(2),其特征在于:在最内层的所述氧化物层(1)和所述有机物层(2)之间设置一缓冲层(3),所述缓冲层(3)的厚度在50nm‑1μm之间。
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