[发明专利]嵌段共聚物型分散剂及其光引发聚合制备方法有效
申请号: | 201210224429.X | 申请日: | 2012-06-29 |
公开(公告)号: | CN102702455A | 公开(公告)日: | 2012-10-03 |
发明(设计)人: | 施晓旦;金霞朝 | 申请(专利权)人: | 上海东升新材料有限公司 |
主分类号: | C08F293/00 | 分类号: | C08F293/00;C08F2/48;C09C3/10;C09C1/02 |
代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 郑玮 |
地址: | 200233 上海市*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明公开了一种嵌段共聚物型分散剂及其光引发聚合制备方法,制备方法包括如下步骤:(1)在溶剂中,将2,2′-联二吡啶加入过渡金属卤化物反应,得到配合物溶液;(2)然后开启紫外光辐照反应,并滴加乙烯基羧酸酯或醋酸乙烯酯和光敏引发剂反应,该部分单体量为总单体重量的5~10%;(3)然后加入余量的与步骤(2)相同的单体,在与步骤(1)相同的温度下反应,然后加入余量的另一种单体反应;(4)过氧化铝柱,除去过渡金属后,将所得溶液与氢氧化钠溶液混合水解;(5)蒸馏,收集蒸馏后的产物,除去溶剂,调节体系的pH和重量固含量,获得产物。本发明的方法制备获得的产物,分子量分布窄,具有卓越分散性能和很强抗盐性。 | ||
搜索关键词: | 共聚物 分散剂 及其 引发 聚合 制备 方法 | ||
【主权项】:
嵌段共聚物型分散剂的光引发聚合制备方法,其特征在于,包括如下步骤:(1)在溶剂中,惰性气氛下,将2,2′‑联二吡啶加入过渡金属卤化物反应,得到配合物溶液;(2)然后开启紫外光辐照反应,并滴加乙烯基羧酸酯或醋酸乙烯酯和光敏引发剂反应,该部分单体量为总单体重量的5~10%;(3)然后加入余量的与步骤(2)相同的单体,在与步骤(1)相同的温度下反应,然后加入余量的另一种单体反应;(4)过氧化铝柱,除去过渡金属后,将所得溶液与重量浓度为20~50%的氢氧化钠溶液混合水解;(5)蒸馏,收集蒸馏后的产物,除去有机溶剂,加NaOH调节体系的pH,并加水调节重量固含量,获得产物。
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