[发明专利]用于晶粒安装的键合层厚度控制无效

专利信息
申请号: 201210231815.1 申请日: 2012-07-05
公开(公告)号: CN102867803A 公开(公告)日: 2013-01-09
发明(设计)人: 陈文炜;林兆基;丘允贤;张国源 申请(专利权)人: 先进科技新加坡有限公司
主分类号: H01L23/495 分类号: H01L23/495;H01L21/58
代理公司: 北京申翔知识产权代理有限公司 11214 代理人: 周春发
地址: 新加坡2*** 国省代码: 新加坡;SG
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摘要: 发明公开了在半导体封装件的制造过程中,将半导体晶粒安装在位于处理平台的衬底上。滴涂器将粘合剂滴涂在衬底上;使用键合工具将半导体晶粒键合在已经滴涂于衬底的粘合剂上;其后使用测量设备测量位于处理平台上的半导体晶粒的下表面和衬底的上表面之间的键合层厚度。
搜索关键词: 用于 晶粒 安装 键合层 厚度 控制
【主权项】:
一种用于制造半导体封装件的方法,该方法包含将半导体晶粒安装在位于处理平台的衬底上的步骤,该将半导体晶粒安装在衬底上的步骤还包含有以下步骤:使用滴涂器将粘合剂滴涂在衬底上;使用键合工具将半导体晶粒键合在已经滴涂于衬底的粘合剂上;其后使用测量设备测量位于处理平台上的半导体晶粒的下表面和衬底的上表面之间的键合层厚度。
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