[发明专利]一种高频低铁损磁性优良的无取向硅钢薄带及生产方法有效

专利信息
申请号: 201210233446.X 申请日: 2012-07-06
公开(公告)号: CN102747291A 公开(公告)日: 2012-10-24
发明(设计)人: 张黎光;李德乾;沈雪梅;谢韦芳 申请(专利权)人: 咸宁泉都带钢科技有限公司
主分类号: C22C38/28 分类号: C22C38/28;C22C38/20;C21D8/12
代理公司: 武汉荆楚联合知识产权代理有限公司 42215 代理人: 王健
地址: 437000 *** 国省代码: 湖北;42
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供一种高频低铁损磁性优良的0.10~0.25mm无取向硅钢薄带,按重量%计含有C 0.001~0.005、Si 2.05~3.75、Als 0.150~0.850、N≤0.003、S≤0.005、P≤0.02、Mn 0.15~0.30,Sn 0.01~0.08、Cr 2.5~3.5、Cu 0.05~0.1、Ti≤0.003其余为Fe及不可避免的杂质组成,酸溶铝、硅含量控制范围:2.2<Als(%)+Si(%)<4.6;该发明降低了中、高频尤其是1000Hz或以上超高频率服役条件下的铁芯损耗并且要稳定该工作状态下的磁性,降低中高频或高频状态下铁损,提高薄带材产品机械强度,优化板形、叠片系数、冲片性。
搜索关键词: 一种 高频 低铁损 磁性 优良 取向 硅钢 生产 方法
【主权项】:
一种高频低铁损磁性优良的无取向硅钢薄带,按重量%计含有C 0.001~0.005、Si2.05~3.75、Als0.150~0.850、N≤0.003、S≤0.005、P≤0.02、Mn0.15~0.30,Sn0.01~0.08、Cr2.5~3.5、Cu0.05~0.1、 Ti≤0.003其余为Fe及不可避免的杂质组成,所述的酸溶铝、硅含量控制在下式范围:2.2<Als(%)+Si(%)<4.6 ;所述的无取向硅钢薄带厚度为:0.10~0.25mm。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于咸宁泉都带钢科技有限公司,未经咸宁泉都带钢科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201210233446.X/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top