[发明专利]质谱系统的现场调节有效

专利信息
申请号: 201210286766.1 申请日: 2012-08-09
公开(公告)号: CN102998362B 公开(公告)日: 2018-10-30
发明(设计)人: 布鲁斯·D·昆比;哈瑞·F·普瑞思特;迈克尔·J·沙勒夫斯基;迈克尔·K·佛雷德 申请(专利权)人: 安捷伦科技有限公司
主分类号: G01N27/64 分类号: G01N27/64;G01N30/72;H01J49/02
代理公司: 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 11258 代理人: 宋鹤
地址: 美国加利*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 发明公开了质谱系统的现场调节。在质谱仪或质谱仪系统(100,700,1100,1500,1900)中,诸如氢的调节气体被添加来调节或清洁质谱仪(104)的一个或多个部件或区域,诸如离子源(120)。调节气体可以在质谱仪(104)的上游添加,诸如添加到柱入口(112)或色谱柱(246)中,或者可以直接添加到质谱仪(104)中。调节气体可以在质谱仪(104)不分析样品时以离线方式添加,或在样品期间以在线方式添加。当在线添加时,调节气体可以与诸如氦的载气混合。在另一实施方式中,调节气体还充当通过柱(246)的载气,另一气体诸如氦可以被添加到在载气流。
搜索关键词: 谱系 现场 调节
【主权项】:
1.一种用于操作质谱仪系统(100,700,1100,1500,1900)的方法,所述方法包括:将样品和载气引入所述质谱仪系统(100,700,1100,1500,1900)的电离室(136)中;以及在保持引入所述样品和所述载气的同时,将调节气体流入所述质谱仪系统(100,700,1100,1500,1900)的质谱仪(104)中,其中,所述质谱仪(104)中的所述调节气体基本不改变所述样品的分析物的质谱特征,并且所述调节气体与所述载气不同。
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