[发明专利]一种负性光刻胶树脂组合物及其制备方法有效
| 申请号： | 201210303132.2 | 申请日： | 2012-08-23 |
| 公开（公告）号： | CN102830589A | 公开（公告）日： | 2012-12-19 |
| 发明（设计）人： | 孙雯雯 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/027 | 分类号： | G03F7/027;G03F7/038 |
| 代理公司： | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人： | 申健 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明实施例提供一种负性光刻胶树脂组合物及其制备方法，涉及光刻胶树脂技术领域，利用所述负性光刻胶树脂组合物制备的光刻胶可以提高光刻胶的感光性能，改善边缘的光刻胶残留，提高液晶显示器的质量。所述负性光刻胶树脂组合物包括：光引发剂、碱溶性树脂、可聚合单体以及溶剂；所述光引发剂、所述碱溶性树脂、所述可聚合单体以及所述溶剂的质量比为1-5.5∶5-14.5∶4-10∶30-70。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光刻 树脂 组合 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种负性光刻胶树脂组合物，其特征在于，包括：光引发剂、碱溶性树脂、可聚合单体以及溶剂；所述光引发剂、所述碱溶性树脂、所述可聚合单体以及所述颜料液的质量比为1‑5.5∶5‑14.5∶4‑10∶30‑70。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司，未经京东方科技集团股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201210303132.2/，转载请声明来源钻瓜专利网。
