[发明专利]一种基于LTCC基板薄膜多层布线制作方法有效

专利信息
申请号: 201210303440.5 申请日: 2012-08-24
公开(公告)号: CN102856213A 公开(公告)日: 2013-01-02
发明(设计)人: 方澍;田昊;余飞;徐姗姗;刘昕 申请(专利权)人: 中国兵器工业集团第二一四研究所苏州研发中心
主分类号: H01L21/48 分类号: H01L21/48;H01L21/768
代理公司: 南京纵横知识产权代理有限公司 32224 代理人: 董建林
地址: 215163 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明涉及一种基于LTCC基板薄膜多层布线制作方法,包括如下步骤:对LTCC多层基板抛磨;高温处理;在LTCC基板背面溅射一层钛和铜;第一次光刻,形成导带图形;用CF4和O2对LTCC基板进行等离子打胶处理;溅射粘附层Ti和种子层Cu,电镀Cu导带;第二次光刻,形成通孔柱图形;电镀Cu通孔柱,并在Cu表面电镀一层Ni膜;用剥离液去除光刻胶和剥离光刻胶上多余的金属层Ti和Cu;旋涂聚酰亚胺,形成胺膜介质层;对LTCC基板上的聚酰亚胺进行抛磨,露出Cu通孔柱表面;重复第一次光刻至抛磨后露出Cu通孔柱表面间步骤,在LTCC基板上制作出薄膜多层布线结构。本发明的工艺方法简单、操作方便、布线密度高,布线质量可靠。
搜索关键词: 一种 基于 ltcc 薄膜 多层 布线 制作方法
【主权项】:
一种基于LTCC基板薄膜多层布线制作方法,其特征在于,包括以下步骤:(1)将LTCC多层基板正面抛光并清洗干净;(2)将抛磨后的LTCC基板放在烧结炉中进行工艺处理;(3)在LTCC基板背面溅射一层粘附层钛Ti和导电层金属铜Cu,形成电镀时的导电层;(4)对基板进行第一次光刻,形成导带图形,作为主导体层的电镀模具;(5)用CF4和O2对LTCC基板进行等离子打胶处理;(6)溅射粘附层Ti和种子层Cu,电镀Cu导带;(7)对基板进行第二次光刻,形成通孔柱图形;(8)电镀Cu柱,形成第一层金属柱,并在Cu表面电镀一层镍膜;(9)用剥离液去除光刻胶和剥离光刻胶上多余的粘附层钛Ti和种子层Cu,形成薄膜多层布线中第一层的金属Cu布线和第一层与第二层间连接的Cu通孔柱;(10)旋涂聚酰亚胺,在呈阶梯状温度下使之固化,形成胺膜介质层;(11)对LTCC基板上的聚酰亚胺表面进行机械抛磨,使之平整,并露出Cu柱表面,以便与下一层布线互连;(12)重复步骤(4)~(11),即可在LTCC基板上制作出薄膜多层布线结构;(13)用光刻胶保护基板正面图形,用湿法腐蚀掉LTCC基板背面溅射的导电层金属铜Cu和粘附层钛Ti,然后用剥离液去除保护正面的光刻胶。
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