[发明专利]半导体装置有效

专利信息
申请号: 201210313561.8 申请日: 2012-08-29
公开(公告)号: CN103035641A 公开(公告)日: 2013-04-10
发明(设计)人: 斋藤涉;小野升太郎;仲敏行;谷内俊治;山下浩明 申请(专利权)人: 株式会社东芝
主分类号: H01L27/06 分类号: H01L27/06;H01L29/78
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 陈萍
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供一种半导体装置,具有场效应型晶体管、第5半导体层、第1二极管和第2二极管,该场效应型晶体管具有:半导体基板、设在所述半导体基板内的多个第2半导体层、以及设在所述第1半导体层的另一方的表面的第6半导体层,该第5半导体层设在所述半导体基板的一方的表面侧,该第1二极管与所述第5半导体层连接,该第2二极管以与所述第1二极管逆串联的方式连接。
搜索关键词: 半导体 装置
【主权项】:
一种半导体装置,具有场效应型晶体管、第1二极管和第2二极管,所述场效应型晶体管具有:半导体基板,包括第1导电型的第1半导体层;多个第2导电型的第2半导体层,从所述半导体基板的一方的表面侧向深度方向延伸,而且相互隔开间隔地设在所述半导体基板内;多个第2导电型的第3半导体层,设为在所述半导体基板的一方的表面侧与一部分所述第2半导体层相接;第1导电型的第4半导体层,选择性地形成在所述第3半导体层的表面;控制电极,隔着绝缘膜设在所述第1半导体层、所述第3半导体层以及所述第4半导体层的表面侧;第1主电极,与所述第3半导体层及所述第4半导体层连接;第1导电型的第6半导体层,设在所述第1半导体层的另一方的表面;以及第2主电极,与所述第6半导体层电连接;所述第1二极管包括第2导电型的第5半导体层、所述第1半导体层、所述第2半导体层和所述第6半导体层而构成,该第2导电型的第5半导体层设为在所述半导体基板的一方的表面侧与一部分所述第2半导体层相接,该第1二极管与钳位电极连接,该钳位电极与所述第5半导体层连接;所述第2二极管包括与所述控制电极连接的第7半导体层而构成,以与所述第1二极管逆串联的方式与所述钳位电极连接。
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