[发明专利]线性电机和包括线性电机的光刻布置有效
申请号: | 201210316513.4 | 申请日: | 2012-08-30 |
公开(公告)号: | CN103064256A | 公开(公告)日: | 2013-04-24 |
发明(设计)人: | 皮特·C·康切尔斯伯格 | 申请(专利权)人: | ASML控股股份有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;H02K33/18 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 张启程 |
地址: | 荷兰维*** | 国省代码: | 荷兰;NL |
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摘要: | 本发明公开了一种线性电机和包括线性电机的光刻布置。光刻设备包括均匀性校正系统。根据本发明的实施例,提供了一种光刻设备,包括:照射系统,配置成调节辐射束。照射系统包括定位在一平面处的均匀性校正系统,配置成在被用辐射束照射时容纳大致恒定的光瞳。所述均匀性校正系统包括配置成可移入与辐射束相交的位置和从与辐射束相交的位置移出的指状件,以便校正辐射束的相应部分的强度。线性电机致动器布置驱动指状件至它们相应的适合位置,用于补偿非均匀照射。由精确地操纵指状件的承载装置的控制系统来提供控制。 | ||
搜索关键词: | 线性 电机 包括 光刻 布置 | ||
【主权项】:
一种光刻设备,包括:照射系统,配置成调节辐射束;支撑结构,配置成保持图案形成装置,该图案形成装置配置成将被调节的辐射束图案化;衬底台,配置成保持衬底;投影系统,配置成将图案化的辐射束投影到衬底的目标部分上;和照射不规则性校正系统,定位在配置成在被用辐射束照射时容纳大致恒定的光瞳的平面处,所述均匀性校正系统包括:指状件,所述指状件配置成能够移入与辐射束相交的位置和从与辐射束相交的位置移出,以便校正辐射束的相应部分的强度;和耦接至指状件中的对应的指状件的致动装置,所述致动装置配置成移动相应的指状件,所述致动装置包括:固定的定子,包括以空间顺序设置在一平面上的第一极、第二极和第三极,其中第一极和第三极具有缠绕到其上的线圈;和转子,该转子包括设置在所述平面中的第四极和第五极,所述转子构造和布置成在固定的定子的第一极、第二极和第三极响应于被以时间顺序激励的、缠绕到第一极和第三极上的线圈而被激励时在两维上是能够线性移动的,其中第四极和第五极设置成与第一极、第二极和第三极相对,固定的定子构造和布置成相对于转子是固定的。
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