[发明专利]曝光装置、曝光管理系统、和曝光方法有效
| 申请号： | 201210320610.0 | 申请日： | 2012-08-31 |
| 公开（公告）号： | CN103293868A | 公开（公告）日： | 2013-09-11 |
| 发明（设计）人： | 石行一贵 | 申请（专利权）人： | 株式会社东芝 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人： | 陈海红;段承恩 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 根据实施方式，提供包括取得部和计算部的曝光装置。取得部取得多个测量值。多个测量值是对于多个焦点偏移量测量的值。多个焦点偏移量彼此不同。多个测量值分别表示拍摄区域内的位置偏移分布。计算部从多个测量值求多个失真误差。计算部按照多个焦点偏移量及多个失真误差，求相关关系。相关关系是焦点偏移量和用于修正失真误差的位置对准修正值的相关关系。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 装置 管理 系统 方法 | ||
【主权项】：
一种曝光装置，其特征在于，包括：取得部，取得对于彼此不同的多个焦点偏移量测量的多个测量值，即分别表示拍摄区域内的位置偏移分布的上述多个测量值；和计算部，从上述多个测量值求多个失真误差，按照上述多个焦点偏移量及上述多个失真误差，求焦点偏移量和用于修正失真误差的位置对准修正值的相关关系。
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