[发明专利]提高制绒或湿法刻蚀设备各轨道腐蚀量均匀性的方法有效
申请号: | 201210323737.8 | 申请日: | 2012-09-04 |
公开(公告)号: | CN102797041A | 公开(公告)日: | 2012-11-28 |
发明(设计)人: | 范志东;赵学玲;郭延岭 | 申请(专利权)人: | 英利能源(中国)有限公司 |
主分类号: | C30B33/10 | 分类号: | C30B33/10;C23F1/24 |
代理公司: | 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 | 代理人: | 吴贵明;余刚 |
地址: | 071051 河*** | 国省代码: | 河北;13 |
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摘要: | 本发明公开了一种提高制绒或湿法刻蚀设备各轨道腐蚀量均匀性的方法。该方法包括以下步骤:1)检测各轨道内硅片的腐蚀量;2)调整腐蚀量偏大或偏小的轨道上的导轮直径,通过控制导轮上的硅片进入设备中各轨道的药液深度从而增加或者减小硅片的腐蚀量,最终使各道内硅片的腐蚀量相一致。本发明的技术方案,通过个别导轮直径的调整,很方便地解决了现有技术中仅通过排风量、药液配比和药液流量大小的调整很难保证各轨道所处的环境完全一样,所以很难控制各轨道硅片的腐蚀量也完全一样的弊端,同时,也可避免更换设备部件造成的额外成本,达到节约的目的。 | ||
搜索关键词: | 提高 湿法 刻蚀 设备 轨道 腐蚀 均匀 方法 | ||
【主权项】:
一种提高制绒或湿法刻蚀设备各轨道腐蚀量均匀性的方法,其特征在于,包括以下步骤:1)检测各轨道内硅片的腐蚀量;2)调整腐蚀量偏大或偏小的轨道上的导轮直径,通过控制所述导轮上的硅片进入所述设备中各轨道的药液深度从而增加或者减小所述硅片的腐蚀量,最终使各道内所述硅片的腐蚀量相一致。
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