[发明专利]对基板进行烤焙处理的装置及方法有效
| 申请号： | 201210363515.9 | 申请日： | 2012-09-26 |
| 公开（公告）号： | CN102863147A | 公开（公告）日： | 2013-01-09 |
| 发明（设计）人： | 朱美娜;戴裔 | 申请（专利权）人： | 深圳市华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | C03B32/00 | 分类号： | C03B32/00 |
| 代理公司： | 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 | 代理人： | 欧阳启明 |
| 地址： | 518132 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种对基板进行烤焙处理的装置，包括支撑平台、多个支撑针、加热单元及绝热层。所述支撑平台具有一支撑面及一底面。所述多个支撑针设置于所述支撑平台中，所述多个支撑针可移动地伸出于所述支撑面，用于顶起所述基板。所述加热单元用于对所述基板进行加热。所述绝热层对应所述支撑平台的所述底面设置，用于防止所述加热单元对所述支撑平台加热。本发明还公开了一种对基板进行烤焙处理的方法，其能有效防止基板在烤焙处理中出现斑点缺陷。 | ||
| 搜索关键词： | 进行 处理 装置 方法 | ||
【主权项】：
一种对基板进行烤焙处理的装置，其特征在于，包括：支撑平台，具有一支撑面及一底面；多个支撑针，设置于所述支撑平台中，所述多个支撑针可移动地伸出于所述支撑面，用于顶起所述基板；加热单元，用于对所述基板进行加热；以及绝热层，对应所述支撑平台的所述底面设置，用于防止所述加热单元对所述支撑平台加热。
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