[发明专利]动态记忆体结构有效

专利信息
申请号: 201210365860.6 申请日: 2012-09-27
公开(公告)号: CN103000633A 公开(公告)日: 2013-03-27
发明(设计)人: 郭明宏 申请(专利权)人: 钰创科技股份有限公司
主分类号: H01L27/108 分类号: H01L27/108
代理公司: 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 代理人: 梁挥;常大军
地址: 中国台湾新竹科*** 国省代码: 中国台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一种动态记忆体结构,至少包含基材、条状半导体材料、断开栅极、介电层、栅极介电层与电容单元。条状半导体材料位于基材上,并沿着第一方向延伸。断开栅极位于基材上并沿着第二方向延伸。断开栅极包含独立的第一区块以及第二区块,而将条状半导体材料分成源极端、漏极端及通道区。介电层至少部分夹置于断开栅极与基材之间。栅极介电层至少部分夹置于断开栅极与条状半导体材料之间。电容单元则与源极端电连接。
搜索关键词: 动态 记忆体 结构
【主权项】:
一种动态记忆体结构,其特征在于,包含:一基材;位于该基材上并沿着一第一方向延伸的一第一条状半导体材料;位于该基材上并沿着一第二方向延伸的一断开栅极,其包含独立的一第一区块以及一第二区块,而将该第一条状半导体材料分成一第一源极端、一第一漏极端及一第一通道区;一第一介电层,至少部分夹置于该断开栅极与该基材之间;一第一栅极介电层,至少部分夹置于该断开栅极与该第一条状半导体材料之间;以及一第一电容单元,与该第一源极端电连接。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于钰创科技股份有限公司,未经钰创科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201210365860.6/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top