[发明专利]阵列基板及其制作方法、液晶面板和显示装置有效
| 申请号： | 201210365899.8 | 申请日： | 2012-09-27 |
| 公开（公告）号： | CN102879953A | 公开（公告）日： | 2013-01-16 |
| 发明（设计）人： | 秦广奎;铃木照晃 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1337 | 分类号： | G02F1/1337 |
| 代理公司： | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人： | 黄志华 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种阵列基板及其制作方法、液晶面板和显示装置，方法步骤如下：提供一基板，在所述基板上规划像素的分布及像素图形，所述像素图形包含透射区图形和反射区图形；在所述像素上形成与透射区图形和反射区图形对应的透射区和反射区；在每个所述像素的所述透射区与反射区的任一边界处，选择平行于所述边界的方向为摩擦方向；或者，选择沿着所述像素的摩擦方向看，从所述透射区向所述反射区为上升沿的方向为摩擦方向，对所述像素的所述透射区和所述反射区进行摩擦使像素具有摩擦取向。通过本发明实现像素摩擦时透射区和反射区之间没有摩擦阴影，减少漏光。 | ||
| 搜索关键词： | 阵列 及其 制作方法 液晶面板 显示装置 | ||
【主权项】：
一种半透半反式的像素阵列基板，包括基板和所述基板上的多个像素，所述像素包含透射区和反射区，所述像素具有一个摩擦方向，其特征在于，在每个所述像素的所述透射区与所述反射区的任一边界处，所述摩擦方向平行于所述边界；或者，沿着所述像素的摩擦方向看，从所述透射区向所述反射区为上升沿。
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