[发明专利]半导体装置有效

专利信息
申请号: 201210369269.8 申请日: 2012-09-27
公开(公告)号: CN103022030A 公开(公告)日: 2013-04-03
发明(设计)人: 大竹诚治;武田安弘;宫本优太 申请(专利权)人: 半导体元件工业有限责任公司
主分类号: H01L27/02 分类号: H01L27/02
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 车玲玲
地址: 美国亚*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 发明提供一种半导体装置。实现能够确保期望的击穿电压且能够流过大的放电电流的ESD保护特性优越的ESD保护元件。由适合的杂质浓度的N+型嵌入层(2)和P+型嵌入层(3)形成PN结二极管。P+型嵌入层与P+型引出层(5)成为一体且将N-型外延层(4)贯通而与阳极电极(10)连接。由P+型嵌入层等包围的N-型外延层上形成N+型扩散层(7)和与该N+型扩散层连接且围绕它的P+型扩散层(6)。N+型扩散层、P+型扩散层与阴极电极(9)连接。由将P+型扩散层作为发射极、将N-型外延层作为基极、将P+型引出层等作为集电极的寄生PNP双极型晶体管(38)和PN结二极管(35)构成ESD保护元件。
搜索关键词: 半导体 装置
【主权项】:
一种半导体装置,其特征在于,包括:第2导电型的外延层,在第1导电型的半导体衬底上堆积;第2导电型的第1嵌入层,在与所述半导体衬底和所述外延层之间形成;第1导电型的第2嵌入层,与所述第1嵌入层的周边区域连接且从所述半导体衬底内向所述外延层内延伸;第1导电型的引出层,从所述外延层的表面向所述外延层内延伸并且与所述第2嵌入层成为一体;第2导电型的第1扩散层,从由所述第2嵌入层、所述引出层和所述第1嵌入层包围的所述外延层的表面向其内部延伸而形成;第1导电型的第2扩散层,与所述第1扩散层连接并且围绕该第1扩散层而形成;以及与所述第1扩散层以及所述第2扩散层连接的阴极电极和与所述引出层连接的阳极电极,所述半导体装置具有:ESD保护元件,通过由所述第1嵌入层和所述第2嵌入层形成的PN结二极管、由所述第2扩散层和所述外延层和所述引出层形成的寄生双极型晶体管所构成。
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