[发明专利]用于润湿扁平基底的装置和具有这种装置的设备

摘要

一种用于当基底沿着输送轨移动时利用流体来润湿基底底面的装置，其具有多个流体输出件，所述流体输出件各有一个用于流体的输出开口，输出开口向上朝向，且一直伸到输送面之前很近处。所述输出开口具有周向边缘，以便基于表面张力形成凸形拱曲的流体储备，其中规定，流体从下面输送至流体输出件。在周向边缘的下方设置有引自流体储备的流体流出件，在流体输出件周围设置有收集下凹，收集下凹通过流出开口与流出槽连接。设置有用于流体的引导至流体输出件的流入道。该装置是可独立操作的基本上封闭的结构单元。

主权项

一种用于润湿扁平基底的装置，其中，当基底在输送面上沿着输送轨移动时，利用流体来润湿基底底面，其中，所述装置具有多个流体输出件，所述流体输出件各有一个用于流体的输出开口，输出开口向上朝向，且一直伸到输送面之前很近处，其中，所述输出开口具有周向边缘，以便基于表面张力形成凸形拱曲的流体储备，其中规定，流体从下面输送至流体输出件或输出开口，其特征在于，在周向边缘的下方设置有引自流体储备的流体流出件，在流体输出件周围设置有收集下凹，收集下凹通过流出开口与流出槽连接，其中设置有引入到用于流体的分布通道中的流入道，该分布通道引导液体地与设置于其上方的流体输出件连接，以便输送流体，其中该装置是可独立操作的基本上封闭的结构单元。