[发明专利]误差扩散和网格移位的算法有效
申请号: | 201210387380.X | 申请日: | 2012-10-12 |
公开(公告)号: | CN103293870A | 公开(公告)日: | 2013-09-11 |
发明(设计)人: | 刘沛怡;林世杰;王文娟;许照荣;林本坚 | 申请(专利权)人: | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 北京德恒律治知识产权代理有限公司 11409 | 代理人: | 章社杲;孙征 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 本发明涉及一种光刻处理中的数据准备的方法。该数据准备的方法包括:在图形数据库系统(GDS)网格中提供集成电路(IC)布局设计,通过对子像素曝光网格应用误差扩散和网格移位技术,将IC布局设计GDS网络转换为第二曝光网格。本发明还提供了一种误差扩散和网格移位的算法。 | ||
搜索关键词: | 误差 扩散 网格 移位 算法 | ||
【主权项】:
一种在光刻处理中使用的方法,包括:在图形数据库系统(GDS)网格中提供集成电路(IC)布局设计;将所述IC布局设计GDS网格转换为子像素曝光网格;对所述子像素曝光网格应用误差扩散技术;对接受所述误差扩散之后的所述子像素曝光网格应用网格移位技术,以生成网格移位曝光网格;在对接受所述误差扩散之后的所述子像素曝光网格应用所述网格移位的同时,将接受所述误差扩散之后的所述子像素曝光网格转换为具有较大像素尺寸的曝光网格;将所述曝光网格与所述网格移位曝光网格相加,以生成第二曝光网格,其中,所述第二曝光网格使用比所述子像素曝光网格更少的数据量。
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