[发明专利]钻石镀真空薄膜的制作方法无效
| 申请号： | 201210396896.0 | 申请日： | 2012-10-18 |
| 公开（公告）号： | CN103774094A | 公开（公告）日： | 2014-05-07 |
| 发明（设计）人： | 刘红彪;易宁;李华志 | 申请（专利权）人： | 东莞劲胜精密组件股份有限公司;东莞华清光学科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/24 | 分类号： | C23C14/24;C23C14/02;C23C14/58;B05D5/06 |
| 代理公司： | 广州粤高专利商标代理有限公司 44102 | 代理人： | 罗晓林;李志强 |
| 地址： | 523878 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种钻石镀真空薄膜的制作方法。包括如下步骤：1）底漆喷涂，所述底漆工艺中使用的底漆中添加有锆英粉，喷涂的底漆厚度控制在10μm～14μm之间，底漆粘度控制在7.3～7.6秒之间；2）钻石镀膜，所镀膜靶材中掺有锆石，镀膜工艺采用不导电镀，镀膜厚度控制在35nm以内；3）中漆喷涂；4）面漆喷涂，面漆中掺有哑浆，面漆厚度控制在12μm～16μm之间。其主要有益效果在于：锆英粉及锆石的添加有助于显著增强产品表面的立体效果，底漆及面漆所采用的厚度数据适中，在不导电镀工艺中容易实现，而且可以显著增强产品的立体感。 | ||
| 搜索关键词： | 钻石 真空 薄膜 制作方法 | ||
【主权项】：
一种钻石镀真空薄膜的制作方法，包括如下步骤：1）底漆喷涂，所述底漆工艺中使用的底漆中添加有锆英粉，喷涂的底漆厚度控制在10μm～14μm之间，底漆粘度控制在 7.3～7.6秒之间；2）钻石镀膜，所镀膜靶材中掺有锆石，镀膜工艺采用不导电镀，镀膜厚度控制在35nm以内；3）中漆喷涂；4）面漆喷涂，面漆中掺有哑浆，面漆厚度控制在12μm～16μm之间。
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