[发明专利]一种新型PECVD设备专用C/C载板挂钩无效
申请号: | 201210403087.8 | 申请日: | 2012-10-22 |
公开(公告)号: | CN102899639A | 公开(公告)日: | 2013-01-30 |
发明(设计)人: | 不公告发明人 | 申请(专利权)人: | 江苏荣马新能源有限公司 |
主分类号: | C23C16/458 | 分类号: | C23C16/458 |
代理公司: | 南京经纬专利商标代理有限公司 32200 | 代理人: | 张惠忠 |
地址: | 223700 江苏省宿*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明涉及一种新型PECVD设备专用C/C载板挂钩,用于硅片的定位,包括由下部开口的方形框架制成的第一、第二挂钩支架;所述方形框架的两支臂的下端内侧均设置有一个可转动的顶片;所述第一挂钩支架的方形框架的两支臂的低端分别向外设置有用于硅片的定位的第一挂钩、第二挂钩,所述第二挂钩支架的方形框架的一支臂的低端向外设置有用于硅片的定位的第三挂钩。本发明不仅镀膜斑点偏离电池片的有效区域,而且斑点面积小、绝缘性能高,同时载板易拆卸安装,不易受损伤。 | ||
搜索关键词: | 一种 新型 pecvd 设备 专用 挂钩 | ||
【主权项】:
一种新型PECVD设备专用C/C载板挂钩,用于硅片的定位,其特征在于:包括由下部开口的方形框架制成的第一、第二挂钩支架;所述方形框架的两支臂的下端内侧均设置有一个可转动的顶片,且两个顶片相对设置;所述第一挂钩支架的方形框架的两支臂的低端分别向外设置有用于硅片的定位的第一挂钩、第二挂钩,所述第二挂钩支架的方形框架的一支臂的低端向外设置有用于硅片的定位的第三挂钩;且第一挂钩、第二挂钩、第三挂钩与硅片接触的一面为斜坡面,同时所述斜坡面的倾斜方向均与方形框架的顶端相背离。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的