[发明专利]溅镀靶材及可写录光记录媒体无效
| 申请号： | 201210404411.8 | 申请日： | 2012-10-22 |
| 公开（公告）号： | CN103774100A | 公开（公告）日： | 2014-05-07 |
| 发明（设计）人： | 张汉丰;郭玉如;洪永辉;张夙萱 | 申请（专利权）人： | 中环股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C22C9/10;G11B7/245 |
| 代理公司： | 北京汇信合知识产权代理有限公司 11335 | 代理人： | 吴甘棠 |
| 地址： | 中国台湾台北市*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明提供一种用于制备可写录光记录媒体的溅镀靶材以及使用该溅镀靶材的可写录光记录媒体，其利用磁控溅镀方式制备无机薄膜材料作为记录层。所述记录层材料选自铜(Cu)、硅(Si)以及铬(Cr)元素作为主成分的混合膜层。所述可写录光记录媒体可透过予以照射激光束后，由该记录层所形成的微结构变化，以达到光信息记录的目的。 | ||
| 搜索关键词： | 溅镀靶材 可写录光 记录 媒体 | ||
【主权项】：
一种用于制备可写录光记录媒体记录层的溅镀靶材，其特征在于，包含有铜Cu、硅Si以及铬Cr，且所述靶材是结晶质。
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