[发明专利]一种硅原料的清洗方法

摘要

本发明公开了一种硅原料的清洗方法，包括以下步骤：将硅原料进行预冲洗，并在冲洗后对硅原料的表面进行检测；根据检测：将表面无杂质的硅原料进行超声清洗后即可完成清洗，将表面有杂质但并不多的硅原料进行普通酸洗，将硅表面杂质很多的原料进行酸液泡洗；将经过酸液洗的硅原料进行冲洗，冲洗后对硅原料表面进行观察；根据观察：将表面没有杂质残留的硅原料进行超声清洗后即可完成，将表面仍有杂质残留的硅原料进行碱洗；将经过碱洗的硅原料进行冲洗，之后再对硅原料进行超声清洗，超声清洗后即可完成。从上述工作过程可知，用本发明进行硅原料的清洗，既能够进行实时监控，又能保证硅原料的清洗质量，还能减少硅原料的损耗，节省成本、提高效率。

主权项

一种硅原料的清洗方法，其特征在于包括以下步骤：1）将硅原料放入清水池内预冲洗，并在冲洗后对硅原料的表面进行检测；2）根据检测：将表面无附着物的硅原料送入超声设备中清洗，将表面有少许杂质的硅原料放入酸液池酸洗，将表面杂质较多的硅原料放入浓酸液池内浸泡1‑3小时； 3）将经过酸液洗或酸液浸泡的硅原料放入清水池中进行冲洗，冲洗后对硅原料表面进行观察；4）根据观察：将表面没有残留污垢的硅原料进行超声清洗，将表面仍有残留污垢的硅原料放入碱液池内进行碱洗；5）将经过碱洗的硅原料放入清水池中进行冲洗，之后再将硅原料送入超声设备中清洗。