[发明专利]一种提高光刻机工件台定位精度的方法有效

专利信息
申请号: 201210425938.9 申请日: 2012-10-31
公开(公告)号: CN103792792A 公开(公告)日: 2014-05-14
发明(设计)人: 高艳玲;王健 申请(专利权)人: 上海微电子装备有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;G01B11/00
代理公司: 北京连和连知识产权代理有限公司 11278 代理人: 王光辉
地址: 201203 上海市浦*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明提出一种提高工件台定位精度的方法,使用带有对准标记对的基底进行测试采集数据并计算实际旋转台旋转中心。测量多个标记对得到圆心的位置,求均值作为旋转台最终的圆心,在工件台运动中进行补偿。本发明提出的确定工件台的旋转台旋转中心的方法,良好地解决了由于安装的机械误差所引起的实际旋转台旋转中心与基底几何中心不重合的问题,以及由此导致的工件台旋转对平移产生的串扰问题。将测得的实际的旋转台旋转中心补偿后,使工件的定位准确,由此大大提高了曝光的质量。
搜索关键词: 一种 提高 光刻 机工 定位 精度 方法
【主权项】:
一种提高工件台定位精度的方法,包括如下步骤:步骤1,将带有多个标记对的测试基底上载到旋转台上;步骤2,获取所述标记对在旋转台旋转前的位置;步骤3,设置旋转台旋转角度α;步骤4,获取旋转台旋转后所述标记对的位置;步骤5,依据旋转前和旋转后的标记对的位置,分别计算旋转台的多个旋转中心位置; 步骤6,将计算得到的所述多个旋转中心位置求取均值,得到实际的旋转台旋转中心位置;步骤7,保存实际的旋转台旋转中心位置,用于在工件台运动中进行补偿;步骤8,卸载测试基底,完成测试。
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