[发明专利]一种Ni-Cr磁控溅射靶材的制备方法

摘要

一种Ni-Cr磁控溅射靶材的制备方法，其靶材成分为80wt.%Ni和20wt.%Cr，通过真空熔炼、浇注、热锻、轧制、退火、机加工等工序制备，采用的原料是纯度为99.96%的电解镍，纯度为99.09%的金属铬，及少量稀土，其中稀土的组成为34.1wt.%La、65.74wt%Ce和少量杂质，通过在熔炼过程中添加0.05~0.4wt.%的稀土元素，并改变锻造形变量和轧制形变量（47.4~80.0%），获得致密度高、晶粒尺寸可在不大于80μm范围内调节且大小分布均匀的高质量Ni-Cr靶。使用本发明制备的Ni-Cr靶材，能有效提高Ni-Cr薄膜的质量以及薄膜沉积速率，该靶材可用于制作薄膜电阻、薄膜电阻应变计、太阳能光谱选择性吸收膜、低辐射镀膜玻璃等，其产品可广泛的应用于电子、能源、建筑等工业领域。

主权项

一种Ni‑Cr磁控溅射靶材的制备方法，其方法步骤如下：（1）原料准备：取纯度为99.96%的电解镍、纯度为99.09%的金属铬、稀土0.52kg；（2）真空熔炼：去除镍和铬板材表面污垢及氧化物并干燥称重，按Ni和Cr的重量比为4:1，称取电解镍103.76kg，取金属铬26.24kg，熔炼温度为1450‑1550℃，熔炼时间为60min，熔炼过程中环境真空度低于8Pa，出炉前在真空和氩保护气氛下加入0.05~0.4wt.%稀土元素；（3）浇注：在真空和氩气保护气氛下进行浇注，浇注后40min脱模，切除冒口，去除表面氧化皮，加工后的铸锭呈一圆台，小头直径为130~135mm，大头直径为160mm，高度为520mm；（4）热锻：采用1吨自由锻空气锤对铸锭进行锻造，始锻温度为1275℃，终锻温度为1000℃，铸锭加热到始锻温度后保温30min，铸锭最终热锻成宽120mm，厚度为38‑100mm的板；（5）轧制：对热锻坯料表面清洗后进行轧制，使其厚度变为20mm，宽度120mm，轧制形变量为47.4%~80%；（6）退火：820℃保温60min；（7）机加工：进行机加工，制成所需尺寸的靶材。