[发明专利]一种去除光阻残留物的清洗液在审
| 申请号： | 201210451120.4 | 申请日： | 2012-11-12 |
| 公开（公告）号： | CN103809393A | 公开（公告）日： | 2014-05-21 |
| 发明（设计）人： | 刘兵;彭洪修;孙广胜;颜金荔;徐海玉 | 申请（专利权）人： | 安集微电子科技（上海）有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/42 | 分类号： | G03F7/42 |
| 代理公司： | 上海翰鸿律师事务所 31246 | 代理人： | 李佳铭 |
| 地址： | 201201 上海市浦东新区华东路*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种用于去除光阻残留物的清洗液及其组成。该去除光阻残留物的清洗液含有醇胺，有机溶剂，没食子酸及其酯以及3-氨基-1,2,4-三氮唑。该去除光阻残留物的清洗液不含有水、羟胺和氟化物。该清洗液在去除晶圆上的光阻残留物同时，对于基材如金属铝、银、铜、钛、钨和非金属二氧化硅、氮化镓等基本无腐蚀，在半导体及LED晶片清洗等领域具有良好的应用前景。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 去除 残留物 清洗 | ||
【主权项】：
一种去除光阻蚀刻残留物的清洗液，其特征在于，所述清洗液包括醇胺，有机溶剂，没食子酸及其酯以及3‑氨基‑1,2,4‑三氮唑。
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