[发明专利]关键尺寸的测量方法有效
| 申请号： | 201210484767.7 | 申请日： | 2012-11-23 |
| 公开（公告）号： | CN103837105A | 公开（公告）日： | 2014-06-04 |
| 发明（设计）人： | 蔡博修 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造（上海）有限公司 |
| 主分类号： | G01B15/00 | 分类号： | G01B15/00 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 屈蘅;李时云 |
| 地址： | 201203 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种关键尺寸的测量方法，在获得定位区域后，继续获得与所述测量点以定位区域中心呈中心对称的辅助定位点，并对辅助定位点进行多次扫描以获得用来定位的阴影区并进行拍照，则由照片得到的阴影区和定位区域的中心及二者的位置差就能够精确的确定测量点，如此就避免了多次重复测量过程中容易出现的测量定位漂移的情况发生，故而能够有效的提高测量的有效性。 | ||
| 搜索关键词： | 关键 尺寸 测量方法 | ||
【主权项】：
一种关键尺寸的测量方法，对测量点进行测量，其特征在于，包括：在第一放大倍率时获得定位区域；在第二放大倍率下获得辅助定位点，反复扫描所述辅助定位点，形成阴影区；在第三放大倍率下进行拍照；提取所述定位区域和阴影区的位置差；由所述位置差调整电子束位移，在第四放大倍率下再次测量测量点；进行设定次数的测量。
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