[发明专利]晶粒定位装置、晶粒定位系统与晶粒定位方法有效
申请号: | 201210491143.8 | 申请日: | 2012-11-27 |
公开(公告)号: | CN103811390A | 公开(公告)日: | 2014-05-21 |
发明(设计)人: | 李宗翰;林良达 | 申请(专利权)人: | 隆达电子股份有限公司 |
主分类号: | H01L21/68 | 分类号: | H01L21/68;H01L33/00 |
代理公司: | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人: | 徐金国 |
地址: | 中国台湾新竹市*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 本发明揭露一种晶粒定位装置、晶粒定位系统与晶粒定位方法。晶粒定位装置包含滚筒本体、多个晶粒吸取部与至少一气体控制装置。滚筒本体其内具有多个彼此互相隔离的空腔。晶粒吸取部条列位于滚筒本体表面。每一条列的晶粒吸取部是对应于一空腔,且每一晶粒吸取部均分别具有晶粒吸附区以及贯穿晶粒吸附区的气体通道。气体控制装置连接空腔,且设置于滚筒本体上。气体控制装置可选择性地对空腔抽气,使得每一位于抽气空腔上的晶粒吸取部可通过其气体通道将晶粒吸附至其晶粒吸附区,而当气体控制装置停止对抽气空腔抽气时,被吸附的晶粒将被释放至一预定位置。 | ||
搜索关键词: | 晶粒 定位 装置 系统 方法 | ||
【主权项】:
一种晶粒定位装置,其特征在于,用以定位多个晶粒于一基板的晶粒设置区上,该晶粒定位装置包含:一滚筒本体,其内具有多个彼此互相隔离的空腔;多个晶粒吸取部,条列位于该滚筒本体表面,其中每一该条列的所述晶粒吸取部是对应于一所述空腔,且每一该晶粒吸取部均分别具有一晶粒吸附区以及一贯穿该晶粒吸附区的气体通道;以及至少一气体控制装置,连接所述多个空腔,设置于该滚筒本体上,且可选择性地对所述空腔抽气,使得每一位于该抽气空腔上的所述晶粒吸取部通过其气体通道将一晶粒吸附至其晶粒吸附区,而当该气体控制装置停止对该抽气空腔抽气时,所述被吸附的晶粒被释放至一预定位置。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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