[发明专利]一种新型显影处理单元结构无效
| 申请号： | 201210494121.7 | 申请日： | 2012-11-28 |
| 公开（公告）号： | CN103034076A | 公开（公告）日： | 2013-04-10 |
| 发明（设计）人： | 何伟明;邢精成;朱骏;张旭昇 | 申请（专利权）人： | 上海华力微电子有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/30 | 分类号： | G03F7/30 |
| 代理公司： | 上海申新律师事务所 31272 | 代理人： | 竺路玲 |
| 地址： | 201210 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供的一种新型显影处理单元结构，包括显影臂、平台、两个或两个以上喷嘴，所述显影臂与所述平台连接，所述平台上设有连接面，所述喷嘴设于所述连接面上，所述连接面的面积大于或等于晶圆的面积。本发明的新型显影处理单元结构的技术方案，其结构简单、制作方便、使用和制作均较为简便。运用多个喷嘴形成多个喷涂通道，可以很好的控制面内的CDU问题，有效的节约成本。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 新型 显影 处理 单元 结构 | ||
【主权项】：
一种新型显影处理单元结构，其特征在于，包括显影臂、平台、两个或两个以上喷嘴，所述显影臂与所述平台连接，所述平台上设有连接面，所述喷嘴设于所述连接面上，所述连接面的面积大于或等于晶圆的面积。
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