[发明专利]电子照相感光构件、生产电子照相感光构件的方法、处理盒、电子照相设备和酞菁晶体有效
申请号: | 201210501758.4 | 申请日: | 2012-11-29 |
公开(公告)号: | CN103135374A | 公开(公告)日: | 2013-06-05 |
发明(设计)人: | 川原正隆;田中正人;渡口要;村上健;吉田晃 | 申请(专利权)人: | 佳能株式会社 |
主分类号: | G03G5/06 | 分类号: | G03G5/06;G03G21/18;G03G15/00;C09B67/50;C09B67/04;C30B29/54 |
代理公司: | 北京魏启学律师事务所 11398 | 代理人: | 魏启学 |
地址: | 日本东京都大*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明涉及电子照相感光构件、生产酞菁晶体的方法、生产电子照相感光构件的方法、处理盒、电子照相设备和酞菁晶体。提供包括支承体和形成于所述支承体上的感光层的电子照相感光构件,其中所述感光层包含酞菁晶体,在所述晶体内含有满足下式(A)和(B)的化合物:8.9≤δP≤10.7(A)和-3.2≤L≤-1.5(B)(式(A)中,δP表示汉森溶解度参数的极性项,和式(B)中,L表示作为基于密度泛函计算B3LYP/6-31G的结构优化计算的结果获得的LUMO(最低未占分子轨道)的能级(eV))。 | ||
搜索关键词: | 电子 照相 感光 构件 生产 方法 处理 设备 晶体 | ||
【主权项】:
一种电子照相感光构件,其包括:支承体;和形成于所述支承体上的感光层,其中所述感光层包含酞菁晶体,在所述晶体内含有满足下式(A)和(B)的化合物:8.9≤δP≤10.7 (A)‑3.2≤L≤‑1.5 (B)式(A)中,δP表示汉森溶解度参数的极性项,和式(B)中,L表示作为基于密度泛函计算B3LYP/6‑31G的结构优化计算的结果获得的LUMO(最低未占分子轨道)的能级(eV)。
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