[发明专利]一种湿刻蚀工艺

摘要

本发明公开了一种湿刻蚀工艺，包括对玻璃基板进行上料、EUV、刻蚀、刻蚀浴、清洗、风刀以及最终出料，通过在传统刻蚀工序后加入刻蚀浴，可以避免基板在刻蚀液中完成刻蚀后突然进入清洗使得药液浓度陡变导致的刻蚀不良，降低基板产生刻蚀不均匀的几率，待刻蚀的图形实现同步刻蚀，得到理想的光滑的图形线条，且刻蚀均匀，从而提高基板的良率。

主权项

一种湿刻蚀工艺，其特征在于：包括以下步骤：1）上料：将玻璃基板放入湿刻机的入口传送带上；2）EUV：对玻璃基板用紫外灯管进行照射去除杂质，后用纯水进行清洗，最后进行烘干处理；3）刻蚀：将浓度为59%的磷酸、浓度为5%的硝酸以及浓度为4%的醋酸按照重量比为50:7:15的比例混合形成刻蚀液，并用该刻蚀液对经过EUV处理的玻璃基板进行刻蚀，同时在出口处进行烘干处理；4）刻蚀浴：按照步骤3）中的配比配置刻蚀液，并将其稀释为浓度为20～30%，形成刻蚀液浴，将经过刻蚀后的玻璃基板放入在刻蚀液浴中，玻璃基板以的方式通过刻蚀液浴；5）清洗：玻璃基板经过刻蚀液浴后，进入清洗单元，利用纯水对玻璃基板上残存的刻蚀液进行清洗；6）风刀：清洗过后，将玻璃基板送入风刀单元，利用风刀将玻璃基板表面的水分烘干；7）出料：将玻璃基板从湿刻机的传送带上取出，放入湿刻机旁指定的卡匣中。