[发明专利]触控装置的制作方法有效
申请号: | 201210527816.0 | 申请日: | 2012-12-10 |
公开(公告)号: | CN102981676A | 公开(公告)日: | 2013-03-20 |
发明(设计)人: | 陈建宇;叶家骏;庄文奇;陈逸祺 | 申请(专利权)人: | 友达光电股份有限公司 |
主分类号: | G06F3/041 | 分类号: | G06F3/041 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 陈小雯 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 本发明公开一种触控装置的制作方法,其包括提供具第一透明导电层的基板,图案化第一透明导电层形成下部触控感测层,再于基板上形成第一保护层与第一光致抗蚀剂层,利用一光掩模图案化第一光致抗蚀剂层使其具有第一开口并具有不同的厚度,移除厚度较小的部分以形成第二开口,然后图案化暴露出的第一保护层而形成开孔与接触洞。移除第一光致抗蚀剂层后,依序形成第二透明导电层与第二光致抗蚀剂层,利用同一光掩模以图案化第二光致抗蚀剂层,使第二光致抗蚀剂层具有对应于第一保护层开孔的第三开口,暴露出第二透明导电层,接着移除被暴露的第二透明导电层,形成上部触控感测层。 | ||
搜索关键词: | 装置 制作方法 | ||
【主权项】:
一种触控装置的制作方法,包括:提供一基板,该基板表面具有一第一透明导电层;图案化该第一透明导电层,以使该第一透明导电层形成一下部触控感测层;依序于该下部触控感测层上形成一第一保护层与一第一光致抗蚀剂层;利用一光掩模以图案化该第一光致抗蚀剂层,使该第一光致抗蚀剂层具有至少一第一开口暴露出该第一保护层,并使该第一光致抗蚀剂层具有一第一厚度与一第二厚度,其中该第二厚度小于该第一厚度;移除具有该第二厚度的部分该第一光致抗蚀剂层,以于该第一光致抗蚀剂层中形成多个第二开口,暴露出该第一保护层;图案化该第一保护层,移除被该第一光致抗蚀剂层所暴露出的部分该第一保护层,以于该第一保护层中形成至少一开孔与多个接触洞;移除该第一光致抗蚀剂层;依序于该第一保护层上形成一第二透明导电层与一第二光致抗蚀剂层;利用该光掩模以图案化该第二光致抗蚀剂层,使该第二光致抗蚀剂层具有至少一第三开口对应于该第一保护层的该开孔并暴露出该第二透明导电层;图案化该第二透明导电层,移除被该第二光致抗蚀剂层所暴露出的部分该第二透明导电层,以使该第二透明导电层形成一上部触控感测层;以及移除该第二光致抗蚀剂层。
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