[发明专利]基板处理装置和基板处理方法有效

专利信息
申请号: 201210535939.9 申请日: 2012-12-12
公开(公告)号: CN103165496A 公开(公告)日: 2013-06-19
发明(设计)人: 天野嘉文 申请(专利权)人: 东京毅力科创株式会社
主分类号: H01L21/67 分类号: H01L21/67;H01L21/02
代理公司: 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 代理人: 刘新宇;张会华
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供基板处理装置和基板处理方法。该基板处理装置抑制不同的药液混合。基板处理装置(1)具有:基板保持部(21),其用于水平地保持晶圆(W);旋转驱动部(24),其用于使基板保持部(21)旋转;第1药液喷嘴(73),其用于向晶圆(W)的周缘部上的第1药液供给位置(74a)喷出第1药液;第2药液喷嘴(83),其用于向晶圆W的周缘部上的第2药液供给位置(84a)喷出第2药液。当第1药液喷嘴(73)喷出第1药液时,旋转驱动部(24)使基板保持部(21)向第1旋转方向(R1)旋转,并且,当第2药液喷嘴(83)喷出第2药液时,旋转驱动部(24)使基板保持部(21)向第2旋转方向(R2)旋转。
搜索关键词: 处理 装置 方法
【主权项】:
一种基板处理装置,其一边使被水平地保持的基板旋转,一边利用药液对基板的周缘部进行液处理,其特征在于,该基板处理装置具有:基板保持部,其用于水平地保持基板;旋转驱动部,其用于使上述基板保持部旋转;第1药液喷嘴,其用于向基板的周缘部上的第1药液供给位置喷出第1药液;第2药液喷嘴,其用于向基板的周缘部上的第2药液供给位置喷出第2药液,当上述第1药液喷嘴喷出第1药液时,上述旋转驱动部使上述基板保持部向第1旋转方向旋转,并且,当上述第2药液喷嘴喷出第2药液时,上述旋转驱动部使上述基板保持部向与第1旋转方向相反的第2旋转方向旋转。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于东京毅力科创株式会社,未经东京毅力科创株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201210535939.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top