[发明专利]掩模板、曝光系统和曝光方法

摘要

本发明提供一种掩模板、曝光系统和曝光方法，属于显示技术领域。曝光系统包括掩膜板和主反射结构，掩膜板包括透光区域和不透光区域，透光区域的图形与第一基板的待曝光区域的图形相对应，不透光区域上设置有用于反射曝光光线的反射区域，反射区域的图形与第二基板的待曝光区域的图形相对应；在曝光光线照射掩膜板，穿过掩膜板的透光区域对第一基板进行曝光时，掩膜板的反射区域反射曝光光线至主反射结构，主反射结构将反射区域反射来的光线再反射至第二基板的待曝光区域对第二基板进行曝光。本发明能够解决对具有不同构图图案的基板，需要用不同的掩膜板进行曝光；并且每次曝光过程中，照射在掩模板不透光区域的曝光光线没有被利用的问题。

主权项

一种掩模板，所述掩膜板包括透光区域和不透光区域，其特征在于，所述透光区域的图形与第一基板的待曝光区域的图形相对应，所述不透光区域上设置有用于反射曝光光线的反射区域，所述反射区域的图形与第二基板的待曝光区域的图形相对应。