[发明专利]半导体器件设计系统及其使用方法有效
| 申请号： | 201210559158.3 | 申请日： | 2012-12-20 |
| 公开（公告）号： | CN103425812B | 公开（公告）日： | 2016-11-23 |
| 发明（设计）人： | 张智贤;彭永州;薛福隆 | 申请（专利权）人： | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号： | G06F17/50 | 分类号： | G06F17/50 |
| 代理公司： | 北京德恒律治知识产权代理有限公司 11409 | 代理人： | 章社杲;孙征 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 一种电路设计系统包括被配置成生成用于电路的原理图信息和预着色信息的原理图设计工具。电路设计系统还包括被配置成在非暂时性计算机可读介质上存储原理图信息和预着色信息的网表文件以及被配置成从网表文件中提取预着色信息的提取工具。包括在电路设计系统中的布局设计工具被配置成基于原理图信息和预着色信息设计至少一个掩模。电路设计系统进一步包括被配置成将至少一个掩模与原理图信息和预着色信息进行比较的布局与原理图比较工具。本发明还提供了半导体器件设计系统及其使用方法。 | ||
| 搜索关键词： | 半导体器件 设计 系统 及其 使用方法 | ||
【主权项】：
一种半导体器件设计系统，包括：原理图设计模块，被配置成生成用于半导体器件的原理图信息和预着色信息，其中，所述原理图设计模块被配置为接收预着色信息，所述预着色信息包括掩模编号信息；网表文件，被配置成将所述原理图信息和所述预着色信息存储在非暂时性计算机可读介质上；布局设计模块，被配置成基于所述原理图信息和所述预着色信息设计至少一个掩模，其中，所述布局设计模块被配置成从提取工具接收所述预着色信息；以及布局与原理图(LVS)比较模块，被配置成比较所述至少一个掩模与所述原理图信息和所述预着色信息。
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