[发明专利]一种全抛釉瓷质砖及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201210561771.9 申请日: 2012-12-22
公开(公告)号: CN103524121A 公开(公告)日: 2014-01-22
发明(设计)人: 黄惠宁;范伟东;钟礼丰;梁瑞益;曾凡武;孟庆娟;喻劲军;钟艳梅 申请(专利权)人: 佛山市三水新华雄陶瓷有限公司;广东金意陶陶瓷有限公司;景德镇金意陶陶瓷有限公司
主分类号: C04B35/14 分类号: C04B35/14;C04B35/622;C04B41/86
代理公司: 佛山东平知识产权事务所(普通合伙) 44307 代理人: 詹仲国
地址: 528133 广东省佛*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明公开了一种全抛釉瓷质砖及其制备方法,包括坯体及其表面的面釉,面釉上层施有全抛釉,其特征在于,面釉的化学成分组成含量为:Al2O3(13-15)%、SiO2(60-63)%、B2O3(0.9-1.1)%、CaO(0.7-0.9)%、MgO(13-14)%、ZnO(1.3-1.5)%、K2O(1.3-1.45)%、Na2O(1.4-1.45)%、ZrO2(1.38-1.45)%、其它(3-4)%;全抛釉的化学成分组成含量为:Al2O3(19-22)%、SiO2(49-51)%、B2O3(0.2-0.3)%、CaO(16-18)%、MgO(1.4-1.5)%、K2O(1.5-1.8)%、Na2O(2.5-2.7)%、其它(6-7)%。本发明提出了一种工艺简单成本低廉的陶瓷砖淋釉技术,产品表面光泽度高、釉层通透、图案清晰、防污效果好,质量优等品率明显提高。
搜索关键词: 一种 全抛釉瓷质砖 及其 制备 方法
【主权项】:
一种全抛釉瓷质砖,包括坯体及其表面的面釉,面釉上层施有全抛釉,其特征在于,所述坯体的化学成分组成含量为:Al2O3(18‑19)%、SiO2(68.5‑70)%、Fe2O3(0.6‑0.8)%、CaO(0.4‑0.5)%、MgO(0.7‑0.9)%、K2O(2.6‑2.8)%、Na2O(2.5‑2.7)%、TiO2(0.25‑0.35)%、烧失量I.L(4.8‑4.9)%;面釉的化学成分组成含量为:Al2O3(13‑15)%、SiO2(60‑63)%、B2O3(0.9‑1.1)%、CaO(0.7‑0.9)%、MgO(13‑14)%、ZnO(1.3‑1.5)%、K2O(1.3‑1.45)%、Na2O(1.4‑1.45)%、ZrO2(1.38‑1.45)%、其它(3‑4)%;全抛釉的化学成分组成含量为:Al2O3(19‑22)%、SiO2(49‑51)%、B2O3(0.2‑0.3)%、CaO(16 ‑18)%、MgO(1.4‑1.5)%、K2O(1.5‑1.8)%、Na2O(2.5‑2.7)%、其它(6‑7)%。
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