[发明专利]一种掩膜板及其制造方法

摘要

本发明提供一种掩膜板及其制造方法，涉及半导体制造技术领域。本发明的掩膜板包括基底、位于基底上的图形化的硅钼薄膜、以及位于掩膜板的周边区域且位于硅钼薄膜上方的图形化的铬薄膜，还包括设置于铬薄膜上方且覆盖铬薄膜的保护层。本发明的掩膜板的制造方法，包括：提供基底，在基底上形成图形化的硅钼薄膜、位于硅钼薄膜上方且位于掩膜板周边区域的图形化的铬薄膜、以及位于铬薄膜上方且覆盖铬薄膜的保护层。本发明的掩膜板通过在周边区域的铬薄膜上增加保护层，阻止了清洗液及周围环境中的硫吸附在铬薄膜上，从而避免了掩膜板的雾状缺陷。本发明的掩膜板的制造方法制造的掩膜板，同样具有上述优点。

主权项

一种掩膜板，包括基底、位于所述基底上的图形化的硅钼薄膜、以及位于所述掩膜板的周边区域且位于所述硅钼薄膜上方的图形化的铬薄膜，其特征在于，所述掩膜板还包括设置于所述铬薄膜上方且覆盖所述铬薄膜的保护层。