[发明专利]电磁波屏蔽结构及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201210587324.0 申请日: 2012-12-28
公开(公告)号: CN103841811B 公开(公告)日: 2017-08-29
发明(设计)人: 洪铭聪;李云卿;梁丽君;杨伟达 申请(专利权)人: 财团法人工业技术研究院
主分类号: H05K9/00 分类号: H05K9/00;B32B15/02;B32B15/08;B32B27/06
代理公司: 北京市柳沈律师事务所11105 代理人: 陈小雯
地址: 中国台*** 国省代码: 台湾;71
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摘要: 发明提供一种电磁波屏蔽结构,包括基材;以及形成于该基材上的多孔复合膜,所述多孔复合膜包含连续相网络、第一树脂组成物及多个孔洞,该连续相网络由多个金属纳米颗粒相互熔接形成,该第一树脂组成物披覆于该连续相网络的表面上,所述孔洞为具有该第一树脂组成物披覆于其上的该连续相网络中的空隙。
搜索关键词: 电磁波 屏蔽 结构 及其 制造 方法
【主权项】:
一种电磁波屏蔽结构的制造方法,包括:提供基材;以及形成多孔复合膜于该基材上,包括:覆盖第一溶液至该基材上,其中该第一溶液包含溶于溶剂中的有机金属络合物及第一树脂组成物;及对该基材上的该第一溶液进行热处理,以使该有机金属络合物分解为多个金属纳米颗粒、使所述金属相互熔接成连续相网络、及固化该第一树脂组成物,其中该多孔复合膜包含连续相网络、第一树脂组成物及多个孔洞,该连续相网络系由多个金属纳米颗粒相互熔接形成,该第一树脂组成物披覆于该连续相网络的表面上,所述孔洞为具有该第一树脂组成物披覆于其上的该连续相网络中的空隙。
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